標(biāo)題:論陶瓷基板tio2涂層光催化降解含氯烷烴溶液 | ||
摘 要:將二氧化硅溶膠與自制的二氧化鈦溶膠按照一定的質(zhì)量比混合,攪拌均勻后噴涂到潔凈的陶瓷基板表上,在500℃下熱處理30分鐘得到了透明二氧化鈦涂層。采用xrd和afm分析了二氧化鈦涂層的晶相結(jié)構(gòu)和表面形貌。二氧化鈦涂層光催化降解含氯自來水研究結(jié)果表明: 二氧化鈦涂層中摻雜20%(ts82)的二氧化硅,其降解效果非常理想。 關(guān)鍵詞:二氧化鈦;含氯烷烴溶液;光催化;電導(dǎo) 中圖分類號:tu5 文獻(xiàn)表識碼:a 作者簡介:陳耀存(1982-),廣東深圳人,從事水質(zhì)處理、監(jiān)控工作。 1 引言 半導(dǎo)體 ……(快文網(wǎng)http://hoachina.com省略445字,正式會員可完整閱讀)……
2 實驗部分 2.1 試樣的制備 按文獻(xiàn)[2-3]制備了二氧化鈦水溶膠和二氧化鈦涂層。 2.2 二氧化鈦薄膜的表征分析 采用x射線衍射儀(日本島津)進(jìn)行二氧化鈦晶相分析,原子力顯微鏡afm(美國愛默森儀器公司)分析二氧化鈦涂層表面形貌。 2.3 光照催化性能評價試驗 配置一定濃度的含氯烷烴溶液置于50毫升的燒杯中,將鍍有二氧化鈦涂層的陶瓷基板浸沒。使用三盞20w紫外光管照射樣品溶液進(jìn)行光催化降解。含氯烷烴的光降解率用電導(dǎo)率儀測定,光源與樣品的距離為15cm,能量密度約0.3mw/cm2。裝置如圖1所示。 3 結(jié)果與討論 3.1 二氧化鈦晶相與表面形貌 圖2為加二氧化鈦涂層摻雜二氧化硅的xrd圖譜, 可知體系結(jié)晶度良好,涂層完全由銳鈦礦型組成。由圖3可知,二氧化鈦樣品在高溫處理后,其厚度和表面結(jié)構(gòu)都具有良好的均勻性,同時,高溫對樣品的粒度影響也不大,圖中的二氧化鈦粒子的平均粒徑約為20nm,這對保持涂層的光催化性、提高涂層質(zhì)量均十分有利。 3.2 光催化降解含氯溶液 下圖4為光催化含氯烷烴降解率與光照時間的關(guān)系示意圖。 由上面三圖可以知道,在紫外光照的條件下,產(chǎn)生的氯離子和氫離子使得溶液的電導(dǎo)率增加。含氯烷烴的降解率與光催化時間關(guān)系密切,光催化時間越長,降解效果越好,能夠有效地降解溶液中地含氯有機(jī)物。 4 結(jié)論 通過無機(jī)鈦鹽可以制成二氧化鈦溶膠,流程簡單,制備時間短。該涂層在水溶液中對二氯甲烷、三氯甲烷和四氯甲烷可以產(chǎn)生光催化作用,在紫外光照的條件下,產(chǎn)生的氯離子和氫離子使得溶液的電導(dǎo)率增加。光催化時間越長,降解效果越好。目前,tio2光催化反應(yīng)降解有機(jī)物技術(shù)已成為科研和產(chǎn)業(yè)界共同關(guān)注的熱點。在實際應(yīng)用中,可以根據(jù)不同條件考慮和其它工藝方法并用,如與生物處理、活性炭吸附和膜分離技術(shù)等相結(jié)合,獲得滿意的降解效率。 參考文獻(xiàn) [1] 姜妍彥,鐘萍,王承遇,趙秀巖.玻璃表面tio2膜性能的影響因素及提高其光 ……(未完,全文共1923字,當(dāng)前只顯示1157字,請閱讀下面提示信息。收藏論陶瓷基板tio2涂層光催化降解含氯烷烴溶液) 上一篇:網(wǎng)絡(luò)a全技術(shù)研究論文 下一篇:環(huán)保型低輻射自清潔玻璃研討論文 相關(guān)欄目: |