標(biāo)題：論陶瓷基板tio2涂層光催化降解含氯烷烴溶液

　　摘 要：將二氧化硅溶膠與自制的二氧化鈦溶膠按照一定的質(zhì)量比混合，攪拌均勻后噴涂到潔凈的陶瓷基板表上，在500℃下熱處理30分鐘得到了透明二氧化鈦涂層。采用xrd和afm分析了二氧化鈦涂層的晶相結(jié)構(gòu)和表面形貌。二氧化鈦涂層光催化降解含氯自來水研究結(jié)果表明: 二氧化鈦涂層中摻雜20％（ts82）的二氧化硅，其降解效果非常理想。
　　關(guān)鍵詞：二氧化鈦；含氯烷烴溶液；光催化；電導(dǎo)
　　中圖分類號：tu5 文獻(xiàn)表識碼：a
　　作者簡介：陳耀存（1982-），廣東深圳人，從事水質(zhì)處理、監(jiān)控工作。
　　1 引言
　　半導(dǎo)體　……（快文網(wǎng)http://hoachina.com省略445字，正式會員可完整閱讀）……　
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紫外光作用下，對光催化含氯有機(jī)物溶液作了相關(guān)研究。
　　2 實驗部分
　　2.1 試樣的制備
　　按文獻(xiàn)[2-3]制備了二氧化鈦水溶膠和二氧化鈦涂層。
　　2.2 二氧化鈦薄膜的表征分析
　　采用x射線衍射儀（日本島津）進(jìn)行二氧化鈦晶相分析，原子力顯微鏡afm（美國愛默森儀器公司）分析二氧化鈦涂層表面形貌。
　　2.3 光照催化性能評價試驗
　　配置一定濃度的含氯烷烴溶液置于50毫升的燒杯中，將鍍有二氧化鈦涂層的陶瓷基板浸沒。使用三盞20w紫外光管照射樣品溶液進(jìn)行光催化降解。含氯烷烴的光降解率用電導(dǎo)率儀測定，光源與樣品的距離為15cm，能量密度約0.3mw/cm2。裝置如圖1所示。
　　3 結(jié)果與討論
　　3.1 二氧化鈦晶相與表面形貌
　　圖2為加二氧化鈦涂層摻雜二氧化硅的xrd圖譜, 可知體系結(jié)晶度良好，涂層完全由銳鈦礦型組成。由圖3可知，二氧化鈦樣品在高溫處理后，其厚度和表面結(jié)構(gòu)都具有良好的均勻性，同時，高溫對樣品的粒度影響也不大，圖中的二氧化鈦粒子的平均粒徑約為20nm，這對保持涂層的光催化性、提高涂層質(zhì)量均十分有利。
　　3.2 光催化降解含氯溶液
　　下圖4為光催化含氯烷烴降解率與光照時間的關(guān)系示意圖。
　　由上面三圖可以知道，在紫外光照的條件下，產(chǎn)生的氯離子和氫離子使得溶液的電導(dǎo)率增加。含氯烷烴的降解率與光催化時間關(guān)系密切，光催化時間越長，降解效果越好，能夠有效地降解溶液中地含氯有機(jī)物。
　　4 結(jié)論
　　通過無機(jī)鈦鹽可以制成二氧化鈦溶膠，流程簡單，制備時間短。該涂層在水溶液中對二氯甲烷、三氯甲烷和四氯甲烷可以產(chǎn)生光催化作用，在紫外光照的條件下，產(chǎn)生的氯離子和氫離子使得溶液的電導(dǎo)率增加。光催化時間越長，降解效果越好。目前，tio2光催化反應(yīng)降解有機(jī)物技術(shù)已成為科研和產(chǎn)業(yè)界共同關(guān)注的熱點。在實際應(yīng)用中，可以根據(jù)不同條件考慮和其它工藝方法并用，如與生物處理、活性炭吸附和膜分離技術(shù)等相結(jié)合，獲得滿意的降解效率。
　　參考文獻(xiàn)
　　[1] 姜妍彥,鐘萍,王承遇,趙秀巖.玻璃表面tio2膜性能的影響因素及提高其光 ……（未完，全文共1923字，當(dāng)前只顯示1157字，請閱讀下面提示信息。收藏論陶瓷基板tio2涂層光催化降解含氯烷烴溶液）

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